Химия - Газофазная эпитаксия - Силановый метод

28 февраля 2011


Оглавление:
1. Газофазная эпитаксия
2. Хлоридный метод
3. Силановый метод

SiH₄=Si+2H₂

Разложение происходит при t=1050 °C, что, по сравнению с хлоридным методом, замедляет диффузию и уменьшает вредный эффект автолегирования. Благодаря этому, данным методом удаётся получать более резкие переходы между слоями.

Легирование

Легирование эпитаксиальных слоёв осуществляется одновременно с их ростом реактивным способом.

Газообразные примеси

Газообразные примеси в большинстве случаев позволяют строить более простую установку, однако нестабильны при хранении и высокотоксичны

Наиболее часто в этом качестве используется арсин AsH₃.

Жидкие примеси

Жидкие легирующие примеси заливают в отдельный термостатированный дозатор барботажного типа или испарительного типа, в который подают газ-носитель H₂. Однако в этом случае труднее регулировать концентрацию примеси в эпитаксиальном слое.

Твёрдые примеси

Твёрдые легирующие примеси распыляются искровым разрядом и далее транспортируются в реакционную камеру водородом, либо испаряются в низкотемпературной зоне печи.

Автолегирование

Наряду с целенаправленным легированием при эпитаксии происходит также автолегирование - перенос примеси из сильнолегированного слоя в слаболегированный. Основным механизмом автолегирования является диффузия примеси. Однако при осаждении слаболегированных слоев возможена также сублимация примеси из сильнолегированной подложки и ее перенос через газовую фазу с последующим встраиванием в растущий слаболегированный слой,.

Просмотров: 4379

<<< Хлорпирифос

Жидкофазная эпитаксия >>>