Химия - Иммерсионная литография

В иммерсионной литографии свет проходит сверху вниз через систему линз, затем попадает в воду, находящуюся между нижней линзой и фоторезистом на поверхности пластины.

Иммерсионная литография — в фотолитографии для микроэлектроники — способ повышения разрешающей способности за счет заполнения воздушного промежутка между последней линзой и пленкой фоторезиста жидкостью с показателем преломления более 1. Угловое разрешение увеличивается пропорционально показателю. Современные литографические установки используют в качестве жидкости высокоочищенную воду, позволяя работать с техпроцессом менее 45 нм. Системы с использованием иммерсионной литографии выпускаются лишь ASML, Nikon и Canon. Улучшением данной технологии можно считать методику HydroLith, в которой измерения и позиционирование производится на сухой пластине, а экспонирование — на «мокрой».